溯到1966年。
那年,109厂和沪市光学仪器厂合作,研制成功我国第一台65型接触式光刻机。到了1977年,中科院半导体所开始研制JK-1型接近式光刻机,并在前年完成第二阶段工艺试验。
去年,109厂,哈市量刃具厂、阿城继电器厂共同研制了KHA75-1型半自动接近接触式光刻机,并获得了第一机械工业部科技工作一等奖。
该型号具有适应性强、功能齐全、性能良好特点,在某些指标已达到CanonPLA500-F型水平。
按照历史进展,两年后的1985年机电部45所将成功研制BG-101分步光刻机,主要性能指标接近甚至达到米国GCA公司的4800DSW系统水平。
同样在该年,中科院沪市光学精密机械研究所研制出扫描式投影光刻机。
总体来看,我国八十年代中期的光刻机水平即便和顶尖水平差一两代,但差距不算太大,可以存在赶追的可能性。
但在八十年代中后期,造不如买,买不如租的思想开始盛行,贸工技妖风四起。
许多国企纷纷转型转产,大项目纷纷落马,没有了支持,项目全部停滞,包括大飞机运十同样如此。
导致我国自研的EDA和光刻机技术被弃之一旁,集成电路产业渐渐与国外脱节,芯片成为卡脖子技术。
到后来ASML已经开始生产3纳米光刻机,我国才刚刚突破28纳米工艺,技术水平差了将近六、七代。
后来国家发现技术是买不来、要不来、讨不来的,才开始花大力气奋起直追。
中间甚至出现几十亿汉芯诈骗、上千亿投资的宏芯烂尾等等令人啼笑皆非的事。
可以说都是在为当初的错误决定买单。
放弃芯片制造光刻机是错,放弃源头EDA软件更是错上加错。
最后被人卡脖子的时候才后悔莫及。
但即便面临这种被各种卡脖子要你命的时候,竟然还有某些人没有认识到这个要命问题!
还在叫喊着科学无国界,甚至把国人的基因图谱发布到国外的杂志期刊上?
这人到底是坏还是蠢?
光刻机、EDA国产化,彭万华默默念叨了两句。
忽然觉得以他超前的视野和眼光,完全可以让这个国家的集成电路和半导体行业少走点弯路。
甚至,引领这个行业的发展。
想到这,彭万华突然觉得资料也不枯燥了,津津有味地看了起来。
设计EDA软件需要三大块基础能力,首先是项目管理能力,毕竟这么大项目,没有项目管理那将会是一场灾难。
二是编程能力,再好的设想和架构都需要编程才能实现。
三是业务能力,EDA应用于设计、制造、封装、测试整个流程中,和IC设计、IC制造、封测产业相辅相成。
如果不能理解集成电路和半导体业务流,那设计出的EDA软件肯定水土不服。
当然,老徐的课题和这三个能力有一定关系,但并不是强相关。
课题组并不是直接设计EDA,甚至连EDA架构也算不上。
现在更多的是梳理产业现状,国内外发展趋势,行业面临的相关问题,以及EDA软件的技术可行性。
除了这些,课题过程中会接触到一些软件并进行必要的试用,试用是为了体会业务的逻辑,以及为什么要这么做。
甚至为了和相关部门和工厂加强关系,还得亲自手撸代码,帮忙解决一些小问题。
至于具体EDA软件国产化怎么实现,并验证,那就非这个小小的课题组所能解决的了。
所以这个课题的输出物,即彭万华等人要输出的显而易见是一份材料和总结。
“走,去微机房练练手去。”
正当彭万华看材料时,董师兄上前喊他一起去微机房。
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